Partikelablagerung und Eigenwiderstand von Pulver-Inhalatoren
Anders als dies bei mit einem Treibmittel betriebenen Dosier-Inhalatoren (pMDI) der Fall ist, müssen Patienten, die einen Pulver-Inhalator (DPI) verwenden, eine bestimmte inspiratorische Atemstromstärke erreichen, um ein einatembares Aerosol aus dem Medikamentenreservoir zu erzeugen. Da Patienten mit obstruktiven Lungenerkrankungen beim Einatmen einen höheren Atemwegswiderstand überwinden müssen, könnte man zu der Annahme gelangen, dass Geräte mit geringem Eigenwiderstand leichter zu gebrauchen und daher für diese Patienten effektiver sind.
Es hat sich jedoch herausgestellt, dass ein höherer Eigenwiderstand eines DPI die oropharyngeale Ablagerung der Partikel verringert. Wenn die Geschwindigkeit des Atemstroms wegen des Gebrauchs eines Inhalationsgeräts mit einem hohen Widerstand abnimmt, verringert sich die Impaktion von Partikeln in den größeren Atemwegen.
Der Eigenwiderstand der verschiedenen Inhalationsgeräte variiert beträchtlich. Bei Geräten mit einem hohen Eigenwiderstand - zum Beispiel der Easyhaler® oder der Turbohaler® - verstärkt sich der Druckabfall, der während des Inhalierens im Gerät auftritt, mit steigender Atemstromgeschwindigkeit beträchtlich. Da die Aerosolerzeugung in einem DPI von der inspiratorischen Atemstromgeschwindigkeit abhängt, kann dies zu einer inkonsistenten Dosierung führen. Bei Geräten mit mittlerem oder geringem Eigenwiderstand - zum Beispiel beim Novolizer® oder beim Diskus® - wird der Druckabfall bei höherer Atemstromgeschwindigkeit nur geringfügig höher.
Literatur:
Kohler D. Novolizer: the new technology for the management of asthma therapy. 2003. Current Opinion in Pulmonary Medicine; 9 (Suppl. 1): S11-S16
Svartengren K, Lindestad PA, Svartengren M, Philipson K, Bylin G, Canner P. Added external resistance reduces oropharyngeal deposition and increases lung deposition of aerosol particles in asthmatics. 1995. Am J Respir Crit Care Med; 152: 32-37
Voshaar T. Therapie mit Aerosolen. 2005. Uni-Med: Bremen
Increased bronchoalveolar deposition by devices with higher resistance
